Wafer 450 mm : des nouvelles

Publié le 27 octobre 2008 , par Florian Vieru - mis à jour le 05 juillet 2009 à 19h - dans Hardware
CeBIT 2008 - Un wafer 45 nm chez IntelIl y a deux semaines nous vous parlions des avancées dans les discussions sur la faisabilité des wafers 450 mm. Aujourd'hui une date a été arrêtée pour un rendez-vous entre les acteurs majeurs de l'industrie. Il s'agira de voter pour une épaisseur « de test ». A l'heure actuelle une proposition à été faite a 925µ +/- 25µ. Pour rappel les actuels wafers 300 mm ont une épaisseur de 775µ. Il faut savoir que suivant l'épaisseur, un wafer peut-être trop fragile, si trop fin, ou pas assez compatible avec les différents équipements de chacun, si trop épais.

La rencontre auras donc lieu du 10 au 13 novembre, au siège de SEMI à San Jose, Californie.
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